Micro- and Nano-Fabrication by Metal Assisted Chemical Etching
Metal-assisted chemical etching (MacEtch) has recently emerged as a new etching technique capable of fabricating high aspect ratio nano- and microstructures in a few semiconductors substrates-Si, Ge, poly-Si, GaAs, and SiC-and using different catalysts-Ag, Au, Pt, Pd, Cu, Ni, and Rh. Several shapes...
محفوظ في:
مؤلفون آخرون: | |
---|---|
التنسيق: | فصل الكتاب |
منشور في: |
Basel, Switzerland
MDPI - Multidisciplinary Digital Publishing Institute
2021
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | Get Fullteks DOAB: description of the publication |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
الانترنت
Get FullteksDOAB: description of the publication
3rd Floor Main Library
رقم الطلب: |
A1234.567 |
---|---|
النسخة 1 | متاح |